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三氟化氮(NF3 nitrogen trifluoride;nitrogen fluoride) CAS:7783-54-2

主要用途:
在常溫常壓下 , 三氟化氮為無色、無臭、性質穩定的液化氣體,高純三氟化氮幾乎沒有氣味,它是一種熱力學穩定的氧化劑,大約在 350 ℃左右可離解成為二氟化氮和氟氣,故其反應性 相似于氟。三氟化氮用作氧化劑時,在發生反應的同時,可作為二氟化氮游離基的供給源。  
三氟化氮主要用途是用作氟化氫 ----氟化氘高能化學激光器的氟源,在H2—O2與F2之間反應能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出,所以HF—OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,對硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮 比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面無污染,尤其是在厚度小于1.5mm的集成電路材料的蝕刻中,NF3具有非常優異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留任何殘留物,同時也是非常良好的清洗劑.隨著納米技術的發展和電子工業大規模的發展技術,它的需求量將日益增加。

三氟化氮質量標準:
項 目 (V/V
3N-150 3N-80 4N-60 4N-40
NF3 % 99.98 99.98 99.99 99.99
CF4ppm 150Volppm 80Volppm 60Volppm 40Volppm
N2+O2+Ar ppm 20Volppm 10Volppm ----- -----
SF6 ppm 5Volppm 5Volppm 5Volppm 5Volppm
CO ppm 5Volppm 5Volppm 5Volppm 5Volppm
CO2 ppm 5Volppm 5Volppm 5Volppm 5Volppm
N2O ppm 5Volppm 5Volppm 5Volppm 1Volppm
HF ppm 5Volppm 5Volppm 1Volppm 1Volppm
H2O ppm 5Volppm 5Volppm 1Volppm 1Volppm
N2 ppm ----- ----- 5Volppm 5Volppm
O2 ppm ----- ----- 5Volppm 5Volppm
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