English 简体 繁体
站点地图|注册|登录

四氟化碳 


Label发布: 2015-3-9 (10:51)

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。

四氟化碳:http://www.kdgc.cn/GetKnowledge/zh-cn/High_purity_gas/Carbon_Tetrafluoride.aspx



Related Content相关内容










     
 
 : 特种气体知识气体百科知识: 氦气知识 
 
     
  发送给朋友| 打印友好
佛山市科的气体化工有限公司版权所有 在线客服
广东省佛山市南海区狮山镇321国道仙溪段
Tel:+86-757-85502055 85599128 Fax:+86-757-85509066 85599168
Email:cnalkodi-im-sales@airliquide.com
把本网站设为主页
Copyright 2006-2014 Foshan KODI
All Rights Reserved Power By Foshan KODI

粤ICP备05102968号