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四氟化碳 


四氟化碳气体在电子行业应用及化学性质
Label发布: 2013-12-2 (9:51)

四氟化碳化学性质    四氟化碳作为电子气体,相对分子量88.00。在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高,是最稳定的有机化合物之一,不易溶于水。在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。 四氟化碳在电子行业的应用      四氟化碳, ...

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四氟化碳的合成和开发
Label发布: 2011-9-15 (9:04)

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。     当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和 ...

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四氟化碳应用
Label发布: 2011-11-12 (11:25)

四氟化碳应用     四氟化碳是目前微电子工业中周量最大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅等薄膜村料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术等方面也有大量应用。而四氟化碳又是一种很重要的温室气体,在生产和使用过程中,通过扩散并释放到大气中,破坏臭氧层。四氟化碳气体标准物质是在温室气体监测中进行化学量值传递的重要组成部分,对我国环境科学及经济发展具有重要的意义。四氟化碳标准气体 ...

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四氟化碳(CF4)的合成与开发
Label发布: 2015-3-9 (10:51)

    四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超 ...

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